Ausschreibung Rasterelektronenmikroskop
Vergabe PR1253394-2790-W
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| Vertragspartei und Dienstleister | |
| Beschaffer | Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 Identifikationsnummer: DE 129515865 Internet-Adresse (URL): https://vergabe.fraunhofer.de/ Postanschrift: Hansastraße 27c Postleitzahl / Ort: 80686 München NUTS-3-Code: DE212 Land: Deutschland Kontaktstelle: Einkauf Betrieb und Infrastruktur E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de Telefon: +49891205-0 Art des öffentlichen Auftraggebers: Öffentliches Unternehmen Haupttätigkeiten des öffentlichen Auftraggebers: Allgemeine öffentliche Verwaltung Beschafferprofil (URL): https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/ |
| Federführendes Mitglied: Ja Zentrale Beschaffungsstelle, die öffentliche Aufträge oder Rahmenvereinbarungen im Zusammenhang mit für andere Beschaffer bestimmten Bauleistungen, Lieferungen oder Dienstleistungen vergibt/abschließt: Ja Zentrale Beschaffungsstelle, die für andere Beschaffer bestimmte Lieferungen und/oder Dienstleistungen erwirbt: Nein |
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| Verfahren | |
| Zweck | |
| Rechtsgrundlage | Richtlinie 2014/24/EU |
| Beschreibung | Interne Kennung: PR1253394-2790-W Titel: Rasterelektronenmikroskop Beschreibung: Rasterelektronenmikroskop Art des Auftrags: Lieferungen |
| Umfang der Auftragsvergabe | |
| Hauptklassifizierung (CPV-Code) | |
| CPV-Code Hauptteil: 38511100-1 | |
| Erfüllungsort | Postleitzahl / Ort: 91058 Erlangen NUTS-3-Code: DE252 Land: Deutschland |
| Bedingungen für die Einreichung eines Angebots | |
| Grundlage für den Ausschluss | Auftragsunterlagen, Bekanntmachung, Einheitliche Europäische Eigenerklärung (EEE) |
| Ausschlussgründe | Grund: Mit Insolvenz vergleichbares Verfahren Beschreibung: Grund: Bestechlichkeit, Vorteilsgewährung und Bestechung Beschreibung: Grund: Bildung krimineller Vereinigungen Beschreibung: Grund: Wettbewerbsbeschränkende Vereinbarungen Beschreibung: Grund: Verstöße gegen umweltrechtliche Verpflichtungen Beschreibung: Grund: Geldwäsche oder Terrorismusfinanzierung Beschreibung: Grund: Betrug oder Subventionsbetrug Beschreibung: Grund: Menschenhandel, Zwangsprostitution, Zwangsarbeit oder Ausbeutung Beschreibung: Grund: Zahlungsunfähigkeit Beschreibung: Grund: Verstöße gegen arbeitsrechtliche Verpflichtungen Beschreibung: Grund: Insolvenz Beschreibung: Grund: Täuschung oder unzulässige Beeinflussung des Vergabeverfahrens Beschreibung: Grund: Interessenkonflikt Beschreibung: Grund: Wettbewerbsverzerrung wegen Vorbefassung Beschreibung: Grund: Schwere Verfehlung Beschreibung: Grund: Mangelhafte Erfüllung eines früheren öffentlichen Auftrags Beschreibung: Grund: Verstöße gegen sozialrechtliche Verpflichtungen Beschreibung: Grund: Verstöße gegen Verpflichtungen zur Zahlung von Sozialversicherungsbeiträgen Beschreibung: Grund: Einstellung der beruflichen Tätigkeit Beschreibung: Grund: Verstöße gegen Verpflichtungen zur Zahlung von Steuern oder Abgaben Beschreibung: Grund: Bildung terroristischer Vereinigungen Beschreibung: Grund: Rein nationale Ausschlussgründe Beschreibung: Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. |
| Grenzübergreifende Rechtsvorschriften | |
| Einzelheiten zum Verfahrenstyp | |
| Verfahrensart | Verfahrensart: Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb |
| Zusätzliche Informationen | |
| Beschaffungsinformationen (allgemein) | |
| Vergabeverfahren | |
| Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren (Vorinformation, ...) | |
| Bedingungen der Auktion | Es wird eine elektronische Auktion durchgeführt: Nein |
| Auftragsvergabeverfahren | Rahmenvereinbarung geschlossen: Keine Rahmenvereinbarung |
| Angaben zum dynamischen Beschaffungssystem: Kein dynamisches Beschaffungssystem | |
| Bedingungen für die Einreichung eines Angebots | |
| Quelle der Eignungskriterien | Auftragsunterlagen, Bekanntmachung |
| Eignungskriterien | Finanzkennzahlen Beschreibung: Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre - Dieses Kriterium ist NICHT das einzige Eignungskriterium. Die vollständigen Eignungskriterien finden Sie hier: https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-19fc6e0a694-6e3043a11711f8ec |
| Vorgehen zur Teilnehmerauswahl | Das Verfahren wird in mehreren aufeinanderfolgenden Phasen durchgeführt. In jeder Phase können einige Teilnehmer ausgeschlossen werden: Nein Höchstzahl der zur zweiten Phase des Verfahrens einzuladenden Bewerber: Mindestzahl der zur zweiten Phase des Verfahrens einzuladenden Bewerber: 3 |
| Zuschlag auf das Erstangebot | Der Auftraggeber behält sich den Zuschlag auf das Erstangebot vor: Nein |
| Weitere Bedingungen zur Qualifizierung | Nachforderung von Unterlagen: Die Nachforderung von Erklärungen, Unterlagen und Nachweisen ist nicht ausgeschlossen. Zusätzliche Informationen: Siehe Vergabeunterlagen |
| Vorbehaltene Auftragsvergabe | Die Teilnahme ist geschützten Werkstätten und Wirtschaftsteilnehmern, die auf die soziale und berufliche Integration von Menschen mit Behinderungen oder benachteiligten Personen abzielen, vorbehalten: Nein |
| Nebenangebote | Nebenangebote sind zulässig: Nein |
| Regelmäßig wiederkehrende Leistungen | |
| Auftrag über regelmäßig wiederkehrende Leistungen: Nein Die Bieter können mehrere Angebote einreichen: Ja |
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| Anforderungen für die Ausführung des Auftrags | |
| Reservierte Vertragsdurchführung | Die Auftragsausführung ist bestimmten Auftragnehmern vorbehalten: Nein |
| Leistungsbedingungen | Bedingungen für die Ausführung des Auftrags: Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter "Ausschreibungsbedingungen" aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen. |
| eRechnung | Elektronische Rechnungsstellung: Ja |
| Anforderungen | Die Namen und beruflichen Qualifikationen des zur Auftragsausführung eingesetzten Personals sind anzugeben: Nicht erforderlich |
| Verfahren nach der Vergabe | Aufträge werden elektronisch erteilt: Nein Zahlungen werden elektronisch geleistet: Nein |
| Organisation, die Angebote entgegennimmt | |
| Informationen zur Einreichung | |
| Fristen | |
| Frist für den Eingang der Teilnahmeanträge: 07.09.2026 10:00 Uhr | |
| Sprachen der Einreichung | Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: DEU |
| Öffnung der Angebote | |
| -ENTFÄLLT- | |
| Einreichungsmethode | Elektronische Einreichung zulässig: Ja Adresse für die Einreichung (URL): https://vergabe.fraunhofer.de |
| Auftragsunterlagen | Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter (URL): https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-19fc6e0a694-6e3043a11711f8ec
Verbindliche Sprachfassung der Vergabeunterlagen: DEU |
| Ad-hoc-Kommunikationskanal | |
| Organisation, die zusätzliche Informationen bereitstellt | oben genannte Kontaktstelle |
| Überprüfung | |
| Fristen für Nachprüfungsverfahren | Informationen über die Überprüfungsfristen: Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB) . Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB). |
| Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren | Offizielle Bezeichnung: Vergabekammern des Bundes Identifikationsnummer: t:022894990 Postanschrift: Kaiser-Friedrich-Straße 16 Postleitzahl / Ort: 53113 Bonn NUTS-3-Code: DEA22 Land: Deutschland E-Mail: vk@bundeskartellamt.bund.de Telefon: +49 228 9499-0 |
| Organisation, die Nachprüfungsinformationen bereitstellt | Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Identifikationsnummer: DE-129515865 Internet-Adresse: (URL) https://www.fraunhofer.de Postanschrift: Hansastraße 27c Postleitzahl / Ort: 80686 München NUTS-3-Code: DE212 Land: Deutschland E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de Telefon: +49 89 1205-0 |
| Schlichtungsstelle | |
| Beschaffungsinformationen (speziell) | |
| Vergabeverfahren | |
| Beschreibung der Beschaffung | Beschreibung: 1 Stück Rasterelektronenmikroskop Die Rasterelektronenmikroskopie (REM) ist ein weit verbreitetes analytisches Verfahren zur Materialanalyse, das eine zerstörungsfreie, benutzerfreundliche Handhabung mit vielfältigen Möglichkeiten zur Materialcharakterisierung verbindet. Neben der Abbildung von Materialoberflächen ermöglicht die REM den Einsatz verschiedener spektroskopischer und beugungsbasierter Methoden zur Analyse der chemischen Zusammensetzung, kristallographischer Eigenschaften sowie struktureller Defekte. Mit einem Feldemissions-REM (FE-REM) lässt sich ein breiter Vergrößerungsbereich erschließen, der bis in den Sub-Nanometer-Auflösungsbereich reicht. Als führendes Institut auf dem Gebiet der Materialien mit (ultra-)breiter Bandlücke benötigen wir ein REM, das ein breites Spektrum materialwissenschaftlicher Charakterisierungsaufgaben unterstützt. Dazu gehören insbesondere die Charakterisierung von Bulk-Kristallen mit (ultra-)breiter Bandlücke, feinkörnigen Ausgangsmaterialien, unbehandelten Substraten hinsichtlich intrinsischer Defekte und Restschäden (z. B. aus Polierprozessen), Substraten mit epitaktischen Schichten für (opto-)elektronische Bauelemente sowie vollständig prozessierten Bauelement-Wafern. Die wesentlichen Anforderungen an das geplante REM lassen sich in drei Hauptaspekte unterteilen: 1) Ein elektronenoptisches System, das eine hochmoderne, hohe laterale Auflösung bis in den Sub-Nanometer-Bereich bietet. Dies muss mit einer umfassenden Detektorausstattung kombiniert sein, einschließlich Kammerdetektoren für Sekundärelektronen (SE) und Rückstreuelektronen (BSE) sowie In-Lens-Detektoren für SE- und BSE-Elektronen, jeweils mit wählbaren Energiebereichen und klarer Trennung der jeweiligen Signale. Bevorzugt wird eine feldfreie Objektivlinse, um Einschränkungen durch magnetische Wechselwirkungen oder Fokussierungsprobleme zu vermeiden, die auftreten können, wenn leitfähige Kanäle (z. B. in elektronischen Bauelementen) in das starke Linsenfeld geneigt werden. Beschleunigungsspannung und Strahlstrom müssen einfach und unabhängig voneinander zwischen hochauflösenden und analytischen Betriebsmodi umschaltbar sein, ohne dass eine aufwendige Neujustierung erforderlich ist. Zudem ist eine technische Lösung zur Vermeidung von Probenaufladungen erforderlich, da einige unserer Materialien aufgrund ihrer breiten Bandlücke elektrisch isolierend wirken oder auf isolierenden Substraten montiert sind. 2) Eine wesentliche Anforderung ist die Möglichkeit, Wafer mittels verschiedener Verfahren - wie etwa der Electron Channeling Contrast Imaging (ECCI)-Technik und der Kathodolumineszenz (CL)-Analyse - an derselben interessierenden Stelle (Region of Interest, ROI) zu untersuchen. Bei Wafern bis zu 8 Zoll muss es möglich sein, jede Position vom Zentrum bis zum Waferrand unter bevorzugten ECCI-Bedingungen anzusteuern, ohne den interessierenden Bereich (ROI) zu verlieren - etwa durch Wafer-Rotation oder Wiederholgenauigkeitsunsicherheiten bei weitreichenden X/Y-Bewegungen während der automatisierten Datenerfassung. Für Wafer bis zu 12 Zoll sollte der größtmögliche Bereich zugänglich sein. Angesichts der typischerweise niedrigen Versetzungsdichten (< 10⁴ cm⁻²) sind eine hohe Pixelzahl sowie ein großes Sichtfeld bei geringer Vergrößerung (bis zu 400 × 400 µm) für den Vergleich von ECCI- und CL-Ergebnissen unerlässlich. Zur Proben-Navigation muss die Verwendung sowohl intern als auch extern aufgenommener Bilder (einschließlich solcher aus anderen Verfahren) möglich sein, um ein zuverlässiges Wiederauffinden ausgewählter Strukturen auf dem gesamten Wafer mit einer Genauigkeit im Mikrometerbereich zu gewährleisten. Dies ist besonders wichtig, wenn Strukturen nur bei hoher Vergrößerung in speziellen Elektronenbildern sichtbar sind, etwa im CL-Kontrast oder als kleine Versetzungen im Beugungsmodus. 3) Für die automatisierte Datenerfassung muss ein breites Funktionsspektrum zur Verfügung stehen. Das System soll eine umfassende Softwarelösung bieten, die sowohl die automatisierte Steuerung der Elektronenmikroskop-Funktionen als auch deren freie Anordnung innerhalb ausgewählter ROIs auf dem Wafer ermöglicht. Dies soll über eine moderne, intuitive grafische Benutzeroberfläche mit einem "Drag-and-Drop"-Workflow-Editor realisiert werden; dieser erlaubt es dem Anwender, nahezu jede Mikroskopfunktion mit definierten ROI-Listen in beliebiger Reihenfolge zu kombinieren - einschließlich Schleifen, bedingter Wenn-Dann-Logik (if/else) und modularer Gruppierung von Workflow-Elementen. Der automatisierte Bildgebungs-Workflow darf sich nicht auf die Aufnahme großer Sichtfelder beschränken, sondern muss auch hochauflösende Bildaufnahmen ermöglichen. Darüber hinaus soll das System integrierte Skripting-Funktionen enthalten, die die Ausführung kundenspezifischer Python-Codes sowie das Extrahieren, Modifizieren und Wiedereinbinden von Python-Unterprogrammen erlauben, um maßgeschneiderte, komplexe Automatisierungs- und Datenverarbeitungsroutinen zu erstellen. Optionen: 1.1.21 Software zur Auswertung von ECP-Mustern Software, die die Indizierung von Beugungslinien und die Bestimmung von Kippwinkeln auf der Grundlage gemessener Elektronen-Channeling-Muster (ECP) ermöglicht. 1.2.9 Zusätzliche Durchführungen Kabel- und Stickstoffdurchführungen für einen EBIC-Probentisch und eine Stickstoff-Kühleinheit. 1.2.10 Plasma-Reiniger Plasma-Reiniger im Inneren der Hauptkammer. 1.4.11 Software zur Analyse geschichteter Proben Software zur Analyse geschichteter Proben mit Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich; die Analyse soll entweder auf vorgegebenen Schichtdicken oder auf der Zusammensetzung der einzelnen Schichten basieren. |
| Umfang der Auftragsvergabe | Diese Auftragsvergabe ist besonders auch geeignet für kleinste, kleine und mittlere Unternehmen (KMU): Ja Besonders auch geeignet für sonstige KMU |
| Art der Auftragsvergabe | Art der strategischen Beschaffung: |
| Erfüllungsort | |
| Geschätzte Laufzeit | Laufzeit in Monaten: 6 |
| Verlängerungen und Optionen | |
| Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen | Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen: Ja |
| Verwendung von EU-Mitteln | Die Auftragsvergabe wird zumindest teilweise aus Mitteln der Europäischen Union finanziert: Nein |
| Zusätzliche Informationen | |
| Bedingungen für die Einreichung eines Angebots | |
| Zuschlagskriterien | Qualitätskriterium Technische Ausführung, Beschreibung: Technische Ausführung, Gewichtung: 65,00 Preis, Beschreibung: Preis, Gewichtung: 35,00 |
| Informationen über die Anwendbarkeit von EED | EED anwendbar: Nein |
| Elektronischer Katalog | Elektronischer Katalog: Nein |
| Informationen zur Richtlinie über saubere Fahrzeuge | Die Auftragsvergabe fällt in den Anwendungsbereich der Richtlinie 2009/33/EG des Europäischen Parlaments und des Rates (Richtlinie zur Förderung sauberer Fahrzeuge - CVD): Nein |