Vergebener Auftrag Plasma-Ätzanlage
Vergabe PR1241915-2270-W
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| Vertragspartei und Dienstleister | |
| Beschaffer | Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12 Identifikationsnummer: DE 129515865 Internet-Adresse (URL): https://vergabe.fraunhofer.de/ Postanschrift: Hansastraße 27c Postleitzahl / Ort: 80686 München NUTS-3-Code: DE212 Land: Deutschland Kontaktstelle: Einkauf Wissenschaftliche Geräte E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de Telefon: +49891205-0 Art des öffentlichen Auftraggebers: Öffentliches Unternehmen Haupttätigkeiten des öffentlichen Auftraggebers: Allgemeine öffentliche Verwaltung Beschafferprofil (URL): https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/ |
| Federführendes Mitglied: Ja Zentrale Beschaffungsstelle, die öffentliche Aufträge oder Rahmenvereinbarungen im Zusammenhang mit für andere Beschaffer bestimmten Bauleistungen, Lieferungen oder Dienstleistungen vergibt/abschließt: Nein Zentrale Beschaffungsstelle, die für andere Beschaffer bestimmte Lieferungen und/oder Dienstleistungen erwirbt: Nein |
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| Verfahren | |
| Zweck | |
| Rechtsgrundlage | Richtlinie 2014/24/EU |
| Beschreibung | Interne Kennung: PR1241915-2270-W Titel: Plasma-Ätzanlage Beschreibung: Plasma-Ätzanlage Art des Auftrags: Lieferungen |
| Umfang der Auftragsvergabe | |
| Hauptklassifizierung (CPV-Code) | |
| CPV-Code Hauptteil: 31712330-2 | |
| Erfüllungsort | Postleitzahl / Ort: 80686 München NUTS-3-Code: DE21H Land: Deutschland |
| Bedingungen für die Einreichung eines Angebots | |
| Grenzübergreifende Rechtsvorschriften | |
| Einzelheiten zum Verfahrenstyp | |
| Verfahrensart | Verfahrensart: Verhandlungsverfahren ohne Teilnahmewettbewerb |
| Direktvergabe | Begründung der Direktvergabe: Der Auftrag kann aus Gründen des Schutzes anderer Ausschließlichkeitsrechte, darunter auch Rechte des geistigen Eigentums, die sich von den in Artikel 5 Absatz 10 der Richtlinie 2014/23/EU definierten Rechten unterscheiden, nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden Sonstige Begründung: Wegen des Schutzes ausschließlicher Rechte ist kein Wettbewerb vorhanden, so dass ein Verhandlungsverfahren ohne Teilnahmewettbewerb mit nur einem Bieter auf der Grundlage des § 14 Abs. 4 Nr. 2 lit. c) VgV durchgeführt wird. |
| Einstellung des Wettbewerbs | Der Aufruf zum Wettbewerb ist beendet: Nein |
| Zusätzliche Informationen | |
| Beschaffungsinformationen (allgemein) | |
| Vergabeverfahren | |
| Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren (Vorinformation, ...) | |
| Bedingungen der Auktion | Es wird eine elektronische Auktion durchgeführt: Nein |
| Auftragsvergabeverfahren | Rahmenvereinbarung geschlossen: Keine Rahmenvereinbarung |
| Angaben zum dynamischen Beschaffungssystem: Kein dynamisches Beschaffungssystem | |
| Organisation, die zusätzliche Informationen bereitstellt | oben genannte Kontaktstelle |
| Überprüfung | |
| Fristen für Nachprüfungsverfahren | |
| Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren | Offizielle Bezeichnung: Vergabekammern des Bundes Identifikationsnummer: t:022894990 Postanschrift: Kaiser-Friedrich-Straße 16 Postleitzahl / Ort: 53113 Bonn NUTS-3-Code: DEA22 Land: Deutschland E-Mail: vk@bundeskartellamt.bund.de Telefon: +49 228 9499-0 |
| Organisation, die Nachprüfungsinformationen bereitstellt | Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Identifikationsnummer: DE-129515865 Internet-Adresse: (URL) https://www.fraunhofer.de Postanschrift: Hansastraße 27c Postleitzahl / Ort: 80686 München NUTS-3-Code: DE212 Land: Deutschland E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de Telefon: +49 89 1205-0 |
| Schlichtungsstelle | |
| Beschaffungsinformationen (speziell) | |
| Vergabeverfahren | |
| Beschreibung der Beschaffung | Beschreibung: Many areas of semiconductors, MEMS, and 3D integration technologies - such as microfluidics, physical, optical, and chemical sensors, and emerging quantum mechanical devices such as so-called Qubits and their integration into silicon substrates - utilize the excellent properties of silicon. In particular, high-precision structuring methods have been developed for these applications. Micro- and nanochannels, membranes, valves, cantilevers, and through-silicon vias are manufactured using Si deep reactive ion etching (Si-DRIE) technology. As a standard etching gas, SF6 is employed in Silicon Deep Reactive Ion Etching (Si-DRIE) processes. SF6 is a potent greenhouse gas with a high global warming potential (GWP) of 25.300 CO2-equivalents. Although the semiconductor industry currently benefits from an exemption regarding SF6 usage, the duration of this exemption remains uncertain. Consequently, the identification of alternative gases to replace SF6 is becoming more important. One promising alternative is F2 gas mixtures. However, their implementation requires specialized modifications to both gas infrastructure and process kits. Hence, in addition to its fluorine compatibility, the requirements for the novel etching system should include scalability and a minimized process chamber volume compared to conventional plasma etching systems. This reduction in chamber volume decreases the total gas flow required, thereby enabling nearly complete gas utilization while minimizing gas-wall interactions. Consequently, faster gas switching times can be achieved in Bosch processes. A key feature of this new developed etching system is its "Green Production" concept, which focuses on the minimization and prevention of environmentally harmful gases. Furthermore, the system enables straightforward scaling of substrate sizes from 150 mm to 200 mm. |
| Umfang der Auftragsvergabe | |
| Art der Auftragsvergabe | Art der strategischen Beschaffung: |
| Erfüllungsort | |
| Geschätzte Laufzeit | Datum des Beginns: 19.07.2027 Enddatum der Laufzeit: 23.07.2027 |
| Verlängerungen und Optionen | |
| Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen | Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen: Ja |
| Verwendung von EU-Mitteln | Die Auftragsvergabe wird zumindest teilweise aus Mitteln der Europäischen Union finanziert: Nein |
| Zusätzliche Informationen | |
| Bedingungen für die Einreichung eines Angebots | |
| Zuschlagskriterien | Preis, Beschreibung: Preis, Gewichtung: 100,00 |
| Informationen über die Anwendbarkeit von EED | EED anwendbar: Nein |
| Informationen zur Richtlinie über saubere Fahrzeuge | Die Auftragsvergabe fällt in den Anwendungsbereich der Richtlinie 2009/33/EG des Europäischen Parlaments und des Rates (Richtlinie zur Förderung sauberer Fahrzeuge - CVD): Nein |
| Ergebnis | |
| Ergebnisse der Beschaffung | |
| Zuschlagsstatus | |
| Status der Preisträgerauswahl: Es wurde mindestens ein Gewinner ermittelt | |
| Eingegangene Einreichungen - Statistik | |
| Anzahl der eingegangenen Angebote: 1 | |
| Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1 | |
| Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0 | |
| Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0 | |
| Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1 | |
| Gewinner 1 | |
| Bieter | Offizielle Bezeichnung: HQ-Dielectrics GmbH |
| Vergabe von Unteraufträgen | Vergabe von Unteraufträgen: Nein |
| Auftrag | Datum des Vertragsabschlusses: 15.09.2026 |
| Bieter | |
| Offizielle Bezeichnung: HQ-Dielectrics GmbH Identifikationsnummer (Umsatzsteuer-ID): DE268025856 Postanschrift: Postfach 49 Postleitzahl / Ort: 89156 Dornstadt NUTS-3-Code: DE145 Land: Deutschland E-Mail: info@hq-dielectrics.eu Telefon: +49 7348-204825 Fax: +49 7348-204928 Unternehmensgröße: Kleines Unternehmen Der Gewinner ist börsennotiert: Nein | |